研磨抛光液

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高锰酸钾氧化铝粗抛液

主要由高纯度氧化铝组成,特别适用于高硬度物质和半导体材料的抛光,例如蓝宝石、硒化锌。具有良好的分散性和稳定性,去除率高、表面粗糙度小,以及对工件无损伤,易清洗等优点。


主要特征

高去除率,利用氧化铝本身高硬度,可做大粒径来达到较大移除量;
粒度范围广,目前最小可做到30nm,最大可做到几十甚至上百微米;
可选择性多,可根据客户需求,制成水性,油性,蜡状,膏状等;
具备良好的分散悬浮性、质量稳定、抛光寿命长;
优质的抛光表面、无桔皮、麻点、划伤等缺陷;
易清洗,不易板结。


粒度分布和应用场景

型号

外观

PH值

固含量 %

粒径 μm

包装(㎏)

MMP037

乳白色液体

碱性

20

0.2-0.5

5/25

MMP038

乳白色液体

碱性

20-30

0.1-0.2

5/25

MMP099

乳白色液体

碱性

20

<0.1

5/25

MMP103

乳白色液体

酸性

10-30

>1

5/25

MMP-S300

乳白色液体

10-20

2-3

5/25


应用领域
金属类材料,如不锈钢,铝件,锌合金;金属类材料,如不锈钢,铝件,锌合金;
蓝宝石光学片,LED蓝宝石衬底,表镜片,晶体,宝石;
光学镜片,光学玻璃,石英;
光纤以及光伏企业;
陶瓷,陶瓷基板,氧化铝陶瓷,氧化锆陶瓷,氮化铝基板,手机陶瓷盖板,穿戴陶瓷。


包装规格

5KG/25KG,桶装(可根据客户需求定制)。

储存方式

存放温度为5℃-35℃,避免阳光照射。

该产品采用进口聚晶氧化铝微粉为主要原料,氧化铝粒径分布均
匀,悬浮体系稳定,分散性好,不易板结。该产品的液相添加了高锰
酸钾,利用高锰酸钾的强氧化性,对SiC片表面进行腐蚀,再通过氧
化铝的机械作用来达到对SiC片的高去除率抛光。
该产品使用简便,抛光件表面易清洗,在抛光机以及抛光垫上无沉
积,配合无纺布粗抛垫使用可以达到极低的表面粗糙度及极低的表
面损伤。

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