发表时间：2021-05-05 17:08:22浏览量：5914【小中大】
主要由高纯度氧化铝组成，特别适用于高硬度物质和半导体材料的抛光，例如蓝宝石、硒化锌。具有良好的分散性和稳定性，去除率高、表面粗糙度小，以及对工件无损伤，易清洗等优点。
主要特征
高去除率，利用氧化铝本身高硬度，可做大粒径来达到较大移除量;
粒度范围广，目前最小可做到30nm，最大可做到几十甚至上百微米;
可选择性多，可根据客户需求，制成水性，油性，蜡状，膏状等;
具备良好的分散悬浮性、质量稳定、抛光寿命长;
优质的抛光表面、无桔皮、麻点、划伤等缺陷；
易清洗，不易板结。
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型号 |
外观 |
PH值 |
固含量 % |
粒径 μm |
包装（㎏） |
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MMP037 |
乳白色液体 |
碱性 |
20 |
0.2-0.5 |
5/25 |
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MMP038 |
乳白色液体 |
碱性 |
20-30 |
0.1-0.2 |
5/25 |
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MMP099 |
乳白色液体 |
碱性 |
20 |
<0.1 |
5/25 |
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MMP103 |
乳白色液体 |
酸性 |
10-30 |
>1 |
5/25 |
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MMP-S300 |
乳白色液体 |
酸性 |
10-20 |
2-3 |
5/25 |
包装规格
5KG/25KG，桶装（可根据客户需求定制）。
储存方式
存放温度为5℃-35℃，避免阳光照射。
该产品采用进口聚晶氧化铝微粉为主要原料，氧化铝粒径分布均
匀，悬浮体系稳定，分散性好，不易板结。该产品的液相添加了高锰
酸钾，利用高锰酸钾的强氧化性，对SiC片表面进行腐蚀，再通过氧
化铝的机械作用来达到对SiC片的高去除率抛光。
该产品使用简便，抛光件表面易清洗，在抛光机以及抛光垫上无沉
积，配合无纺布粗抛垫使用可以达到极低的表面粗糙度及极低的表
面损伤。
