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SiC衬底磨抛新工艺:突破成本壁垒,开启高效制造新时代。

发表时间:2023-11-18 14:29:00浏览量:5414

碳化硅晶圆制造过程中,为了确保顺利产出高质量、高性能的产品,每一步操作都需要非常精确。其中,碳化硅衬底的研磨抛光尤为重要,因为它直接影响到芯片的质量和性能。为了实现高效、精密的研磨抛光,选择适当的研磨...
碳化硅晶圆制造过程中,为了确保顺利产出高质量、高性能的产品,每一步操作都需要非常精确。其中,碳化硅衬底的研磨抛光尤为重要,因为它直接影响到芯片的质量和性能。为了实现高效、精密的研磨抛光,选择适当的研磨材料是关键。今天,我们将探讨碳化硅衬底研磨抛光工序中的重要材料——金刚石研磨液。
1. 金刚石研磨液的组成
金刚石,以其出色的硬度和耐磨性而著称,在研磨抛光领域中具有不可或缺的地位。金刚石研磨液主要由金刚石微粉、分散剂、悬浮剂以及润滑剂等组成。其中,金刚石微粉作为主要的磨料,对碳化硅衬底进行物理磨削。分散剂和悬浮剂确保研磨液内的金刚石粒子能均匀分散,防止团聚。润滑剂则降低研磨过程中的摩擦,确保碳化硅衬底表面的平滑度和质量。
2. 金刚石研磨液的优势
高效率:金刚石微粉的高硬度和尖锐性使得研磨过程更加高效,短时间内可获得所需的平坦度和光洁度。
高精度:由于金刚石的自锐性和微粉的均匀分散,晶圆在研磨过程中能够保持高精度和一致性。
广泛的适应性:不同粒度的金刚石研磨液可适用于不同阶段的研磨,从粗研磨到超精细研磨,都可以找到合适的产品。3. 中机新材旗下的金刚石研磨液产品

团聚金刚石研磨液DLE1532

在众多的金刚石研磨液供应商中,深圳中机新材料有限公司凭借其产品的高质量、高性能,为客户降本增效,脱颖而出。中机新材不仅提供单晶、聚晶、类多晶金刚石研磨液,还自主研发了团聚金刚石研磨液,能够满足不同客户的需求。其产品分散性好、粒度均匀,为碳化硅衬底研磨抛光提供了坚实的保障。
随着第三代半导体技术的不断进步与发展,对碳化硅衬底的研磨抛光要求也越来越高。而金刚石研磨液,作为这一过程中的关键材料,其重要性不言而喻。中机新材以其高品质的产品,为半导体制造行业提供了强大的支持,确保了高效、高质量的研磨抛光效果。